半导体光刻胶可分为g线、i 线、KrF、ArF 和 EUV 五种类型
数据来源：中国科学院微电子研究所《光刻技术六十年》、ASML2022 年年报、行行查研究中心、南大光电公告、开源证券研究所
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数据来源：ASML年报、开源证券研究所2024-08-29
图表属性
- 数据类型：其他
- 行业分类：工业制造
- 发布日期：2024-08-29
- 文件格式：PNG