力诺特玻：中硼硅拉管良率快速爬升至60%，23H1进入产能集中释放期
SK海力士HBM3E良率已接近80%，HBM供不应求
三星HBM3e英伟达认证情况对手良率产能进度等交流纪要20240704
22H1产能利用率+良率提升驱动利润高增长，看好下半年旺季业绩弹性
9月3日媒体报道英伟达宣布RTX50系列显卡需要重新流片RTO以提升良率
新品增益与常规品降本双轮驱动，期待良率及产能持续提升
半导体设备专题报告系列一：半导体工艺控制设备，芯片良率关键，国产化率不足5%，替代空间大
机械设备行业跟踪周报：看好国产化加速的半导体设备；推荐良率突破&800V放量催化的碳化硅设备和材料
三星HBM3e英伟达认证情况对手良率产能进度等交流纪要以下
芯片良率的重要保障，量检测设备国产替代潜力大
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